半导体光刻机经过6代产品演变，已经进入EUV极紫外光刻机阶段，目前14nm制程以下的高端光刻机市场，完全被ASML一家所独占。而日本企业佳能，尼康已经没有能力生产14nm工艺制程以下的光刻机，并且放弃了高端EUV光刻机的研发。日本号称”技术立国“，几乎所有的工业设备都是自己生产，1982年起，日本就已经是全球最大的机床生产国。
80年代末期，日本半导体产业空前繁荣，世界90%的DRAM产量来自日本企业，NEC，日立，东芝压倒英特尔，成为全球芯片龙头。半导体产业的繁荣也带动了日本半导体设备产业的发展，东京电子，SCREEN等成为市场的佼佼者。不过唯独在光刻机上，日本企业止步不前，拱手将市场让给了ASML,那么日本企业为什么没能拿下高端光刻机？
目前主流的说法是日本企业走错了方向。在45nm制程以下制程面临技术瓶颈之际，市场面临两种选择，一种是以尼康，佳能为主，主张开发157nm光源，另一方以台积电为首，主张开发193nm浸入式光刻技术。而ASML抓住了机会，率先响应了台积电，并且在2007年推出了第一台浸入式光刻机，突破了45nm工艺制程，逐渐垄断了市场。
表面上看是尼康，佳能选择了错误的方向，更深层的原因是日本企业面对市场的革新浪潮，往往缺乏应变之道和适应能力。有一种说法，日本企业只擅长小打小闹，对于小的改善和改良更拿手，所以一些重大技术进步都来自欧美企业，而日本公司购买了这些专利和发明后，加以改良，再推向市场。虽然这种说法不一定准确，不过还是有一定的道理。日本企业提倡工匠精神，胜在时间的积累，对于细节比较专注，而欠缺对一些重大技术进步的把握。
此外从ASML成功的经验来看，这是一家注重开放和创新文化的企业，经常和周边的大学和科研机构进行交流，以掌握最新的技术应用，其中著名的IMEC（比利时微电子研究所）在ASML前进的道路上发挥了很大作用。ASML高达九成的零部件来自供应商，他们在世界范围内寻找最好的产品和技术，这家企业独创的客户入股的研发模式相信在世界上是绝无仅有。
而日本企业的文化就封闭很多，大多数的零部件都来自于自己内部系统，并且很少会更换供应商，无形中就形成了巨大的差距。由于光刻机技术高度复杂，涵盖了光学，机械，电子电路，化学等诸多学科，对于专业知识的储备要求极高，因此开放式，学习型的组织显得尤为重要，或许这才是日本企业做不出高端光刻机的真正原因。
